في أنظمة الفراغ في المختبرات والصناعات، حتى تقلبات الضغط الدقيقة أو تسرب الغاز يمكن أن تعرض بيانات التجربة للخطر أو تدهور جودة الإنتاج.غالبًا ما تفشل مواد الختم التقليدية في الحفاظ على سلامتها في ظل ظروف فراغ شديدة بسبب القيود المفروضة على صلابة المواد ومرونتها.
وتتناول غشاشات السيليكون الأساسية المغطاة بـ PTFE (المعروفة عادة باسم غشاشات النمط المغلف) هذه التحديات من خلال بناء جديد مزدوج الطبقات. تتكون الطبقة الخارجية من نقاء عال،PTFE العذراء غير الكيميائية (polytetrafluoroethylene)هذا المزيج من المواد الصلبة والمرنة يوفر مقاومة كيميائية استثنائية جنبا إلى جنب مع المرونة الفيزيائية الفائقة.
بالمقارنة مع حلقات O التقليدية المكونة من مادة واحدة ، توفر هذه الأغلفة المركبة:
يتطلب النظام تطابقًا صارمًا للمكونات لضمان أداء مثالي. على سبيل المثال ، يجب أن يتم ربط غشات طراز CG-147-G و CG-147-P حصريًا مع مشابك مغلفة بـ PTFE خضراء من سلسلة CG-141-T.هذا التوافق الصارم يضمن محاذاة هندسية مناسبة ويخلق ضغط الختم الميكانيكي المثالي في اتصالات الفلينج.
من خلال دمج علوم المواد المتقدمة والهندسة الميكانيكية ، تمثل غشاشات الأساس السيليكونية المحاطة بـ PTFE تقدماً كبيراً في تكنولوجيا الختم الفراغ.لا تزال الفهم السليم لخصائص المواد وتوافق النظام ضروري للحفاظ على التشغيل الموثوق به في تطبيقات فراغ الدقة.
english
français
Deutsch
Italiano
Русский
Español
português
Nederlandse
ελληνικά
日本語
한국
العربية
हिन्दी
Türkçe
indonesia
tiếng Việt
ไทย
বাংলা
فارسی
polski